专利名称：一种凸面闪耀光栅制作方法专利类型：发明专利发明人：刘全,吴建宏,陈明辉申请号：CN201210035381.8申请日：20120216公开号：CN1020302A公开日：20120704
摘要：本发明是一种凸面闪耀光栅的制作方法，通过先在凸面基片上制作同质光栅，以该同质光栅为掩模，进行球面转动斜向离子束刻蚀得到所需的闪耀光栅。由于在制作同质光栅时，可以控制正向离子束刻蚀的时间，使同质光栅的槽深得到精确控制，另外在干涉光刻得到光刻胶光栅之后，可以进一步增加灰化工艺，控制光刻胶光栅的占宽比，从而控制所需的同质光栅的占宽比，因此本发明的制作方法实现了制作闪耀光栅的多参数控制，提高了制作精度。
申请人：苏州大学
地址：215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
国籍：CN
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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