衬底处理方法及衬底处理装置[发明专利]

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专利名称：衬底处理方法及衬底处理装置专利类型：发明专利

发明人：吉田幸史,奥谷学,安田周一,金松泰范,上田大,张松,

长原达郎,绢田贵史

申请号：CN2019104676.1申请日：20190530公开号：CN110556315A公开日：20191210

摘要：本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括：处理液供给工序，向具有具备凹凸的图案面的衬底的前述图案面供给处理液；处理膜形成工序，使已被供给至前述图案面的前述处理液固化或硬化，以追随该图案面的凹凸的方式形成保持存在于前述图案面上的去除对象物的处理膜；和除去工序，向前述图案面供给剥离液，将前述处理膜与前述去除对象物一同从前述图案面剥离，在维持前述去除对象物被前述处理膜保持的状态的同时将前述处理膜从前述衬底除去。

申请人：株式会社斯库林集团,默克专利有限公司

地址：日本京都府

国籍：JP

代理机构：北京市金杜律师事务所

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