专利名称：一种蚀刻设备专利类型：发明专利发明人：李树群
申请号：CN201811206078.3申请日：20181017公开号：CN109369028A公开日：20190222
摘要：本申请提供一种蚀刻设备，包括：腔室，以及设置在腔室内的反应台和至少一个装载底座；其中，装载底座设置在反应台上，装载底座上设置有多个凹槽，且凹槽为圆弧形凹槽。通过在装载底座上设置多个圆弧形凹槽，解决了面板在刻蚀过程中出现跳片的技术问题，不仅提高了面板刻蚀的均匀性，还提高了面板的产品良率。
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
地址：430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
国籍：CN
代理机构：深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)
代理人：黄威
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容
Copyright © 2019- pqdy.cn 版权所有 赣ICP备2024042791号-6
违法及侵权请联系：TEL:199 1889 7713 E-MAIL:2724546146@qq.com
本站由北京市万商天勤律师事务所王兴未律师提供法律服务